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目次
序論 シリコンの科学
1. まえがき/ 3
2. 0.25μm以降のリソグラフィ技術/ 3
3. エピタキシャルウェーハ導入の必然性/ 5
4. エピタキシャル結晶の高品質化/ 8
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書誌情報
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- 資料種別
- 図書
- ISBN
- 4-947655-88-7
- タイトル
- タイトルよみ
- シリコン ノ カガク
- 著者・編者
- UCS半導体基盤技術研究会 編大見忠弘, 新田雄久 監修
- 著者標目
- 大見, 忠弘, 1939- オオミ, タダヒロ, 1939- ( 00406390 )典拠半導体基盤技術研究会 ハンドウタイ キバン ギジュツ ケンキュウカイ ( 00264648 )典拠
- 出版事項
- 出版年月日等
- 1996.6
- 出版年(W3CDTF)
- 1996