シリコンの科学

• 資料種別: 図書
• ISBN: 4-947655-88-7
• タイトル: シリコンの科学
• タイトルよみ: シリコン ノ カガク
• 著者・編者: UCS半導体基盤技術研究会 編; 大見忠弘, 新田雄久 監修
• シリーズタイトル: Surface science technology series ; no.3
• 著者標目: 大見, 忠弘, 1939- オオミ, タダヒロ, 1939- ( 00406390 )典拠; 新田, 雄久 ニッタ, タカヒサ ( 00806755 )典拠; 半導体基盤技術研究会 ハンドウタイ キバン ギジュツ ケンキュウカイ ( 00264648 )典拠
• 出版事項: 東京 : リアライズ社
• 出版年月日等: 1996.6
• 出版年（W3CDTF）: 1996
• 数量: 1030, 16p
• 大きさ: 27cm
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: シリコン (半導体) シリコン (ハンドウタイ) ( 00571220 )典拠
• NDC9版: 549.8 : 電子工学
• NDLC: ND371
• 対象利用者: 一般
• 入手条件・定価: 60000円
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: ND371-G192
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000003050482; http://id.ndl.go.jp/bib/000003050482
• 全国書誌番号: 20228790
• 目録規則: 日本目録規則1987年版改訂版
• 整理区分コード: 111

目次

序論 シリコンの科学

1. まえがき/ 3

2. 0.25μm以降のリソグラフィ技術/ 3

3. エピタキシャルウェーハ導入の必然性/ 5

4. エピタキシャル結晶の高品質化/ 8