4th International Symposium on Plasma Chemistry : Topical Meeting on Interactions of Low Pressure Plasmas with Solid Surfaces : Round Table on Thermal Plasma Processing : conference proceedings, August 27 through September 1, 1979 / edited by S. Vepřek and J. Hertz.

• 資料種別: 図書
• タイトル: 4th International Symposium on Plasma Chemistry : Topical Meeting on Interactions of Low Pressure Plasmas with Solid Surfaces : Round Table on Thermal Plasma Processing : conference proceedings, August 27 through September 1, 1979 / edited by S. Vepřek and J. Hertz.
• 著者標目: International Symposium on Plasma Chemistry (4th : 1979 : Zurich, Switzerland); Vepřek, S.; Hertz, J.; 国際純粋および応用化学連合 コクサイ ジュンスイ オヨビ オウヨウ カガク レンゴウ ( 00743370 )典拠; Topical Meeting on Interactions of Low Pressure Plasmas with Solid Surfaces (1979 : Zurich, Switzerland); Round Table on Thermal Plasma Processing (1979 : Zurich, Switzerland)
• 出版事項: Zurich, Switzerland : University of Zurich
• 出版年月日等: [1979]
• 出版年（W3CDTF）: 1979
• 数量: 2 v. : ill. ; 21 cm.
• 出版地（国名コード）: CH
• 本文の言語コード: eng
• 件名標目: Plasma chemistry -- Congresses.
• LCC: QD581
• DDC: 541/.0424
• NDLC: M15; PA
• 一般注記: At head of title: ISPC-4; International Union of Pure and Applied Chemistry.
• 書誌注記: Includes bibliographical references and indexes.
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: M15-A5134
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000003092334; http://id.ndl.go.jp/bib/000003092334
• LC control number: 81481907; https://lccn.loc.gov/81481907
• 目録規則: 英米目録規則
• 整理区分コード: 211