Electron-beam, X-ray, and ion-beam techniques for submicrometer lithographies III : March 15-16, 1984, Santa Clara, California / Alfred Wagner, chairman/editor ; cooperating organization, the International Society for Hybrid Microelectronics. (Proceedings of SPIE--the International Society for Optical Engineering ; v. 471)

Electron-beam, X-ray, and ion-beam techniques for submicrometer lithographies III : March 15-16, 1984, Santa Clara, California / Alfred Wagner, chairman/editor ; cooperating organization, the International Society for Hybrid Microelectronics.

(Proceedings of SPIE--the International Society for Optical Engineering ; v. 471)

国立国会図書館請求記号: M15-A4747
国立国会図書館書誌ID: 000003115578

資料種別: 図書

著者: Wagner, Alfred, 1950-ほか

出版者: SPIE--the International Society for Optical Engineering

出版年: c1984.

資料形態: 紙

ページ数・大きさ等: vi, 136 p. : ill. ; 28 cm.

NDC: -

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書誌情報

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紙

資料種別: 図書
ISBN: 0892525061 (pbk.)
タイトル: Electron-beam, X-ray, and ion-beam techniques for submicrometer lithographies III : March 15-16, 1984, Santa Clara, California / Alfred Wagner, chairman/editor ; cooperating organization, the International Society for Hybrid Microelectronics.
シリーズタイトル: Proceedings of SPIE--the International Society for Optical Engineering ; v. 471
著者標目: Wagner, Alfred, 1950-
International Society for Hybrid Microelectronics.
出版事項: Bellingham, Wash., USA : SPIE--the International Society for Optical Engineering
出版年月日等: c1984.
出版年（W3CDTF）: 1984
数量: vi, 136 p. : ill. ; 28 cm.
出版地（国名コード）: US
本文の言語コード: eng
件名標目: X-ray lithography -- Congresses.
Lithography, Electron beam -- Congresses.
Ion beam lithography -- Congresses.
LCC: TK7874
DDC: 621.3815/2
NDLC: M15
ND
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: M15-A4747
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000003115578
http://id.ndl.go.jp/bib/000003115578
LC control number: 84050821 //r85
https://lccn.loc.gov/84050821
整理区分コード: 211