Plasma etching processes for sub-quarter micron devices -- : Plasma etching processes for sub-quarter micron devices : International symposium : Oct 1999, Honolulu, HI. (PV ; 99-30)

Plasma etching processes for sub-quarter micron devices -- : Plasma etching processes for sub-quarter micron devices : International symposium : Oct 1999, Honolulu, HI.

(PV ; 99-30)

国立国会図書館請求記号: M17-01-3334
国立国会図書館書誌ID: 000003452057

資料種別: 図書

著者: Electrochemical Society.ほか

出版者: Electrochemical Society

出版年: 2000.

資料形態: 紙

ページ数・大きさ等: v.

NDC: -

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資料に関する注記

一般注記：: Papers.Held as part of the joint international meeting of the Electrochemical Society and the Electrochemical Society of Japan.Index term: plasma etch...

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書誌情報

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紙

資料種別: 図書
ISBN: 1566772532
タイトル: Plasma etching processes for sub-quarter micron devices -- : Plasma etching processes for sub-quarter micron devices : International symposium : Oct 1999, Honolulu, HI.
シリーズタイトル: PV ; 99-30
著者標目: Electrochemical Society.
Electrochemical Society of Japan.
出版事項: Electrochemical Society
出版年月日等: 2000.
出版年（W3CDTF）: 2000
数量: v.
並列タイトル等: Held as part of the joint international meeting of the Electrochemical Society and the Electrochemical Society of Japan
plasma etching processes ; sub quarter micron devices ; micron devices ; electrochemical
NDLC: M17
一般注記: Papers.
Held as part of the joint international meeting of the Electrochemical Society and the Electrochemical Society of Japan.
Index term: plasma etching processes ; sub quarter micron devices ; micron devices ; electrochemical.
BL shelfmark: 6695.400 vol 99-30 1999.
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: M17-01-3334
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000003452057
http://id.ndl.go.jp/bib/000003452057
UKMARC番号: G07062122
整理区分コード: 215