Plasma process-induced damage : 3rd International symposium : Jun 1998, Honolulu, HI.

• 資料種別: 図書
• ISBN: 0965157725 (pbk); 0780342666 (microfiche)
• タイトル: Plasma process-induced damage : 3rd International symposium : Jun 1998, Honolulu, HI.
• 著者標目: Institute of Electrical and Electronics Engineers. Electron Divices Society (EDS); Japan Society of Applied Physics.; American Vacuum Society (AVS)
• 出版事項: American Vacuum Society
• 出版年月日等: 1998.
• 出版年（W3CDTF）: 1998
• 数量: v.
• 並列タイトル等: Also known as P2ID. IEEE cat no 98EX100; P2ID ; plasma process induced damage ; IEEE ; JSAP
• NDLC: M17; ND
• 一般注記: Papers.; Also known as P2ID. IEEE cat no 98EX100.; Index term: P2ID ; plasma process induced damage ; IEEE ; JSAP.; BL shelfmark: 4550.30255 3rd 1998.
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: M17-99-1512
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000003509056; http://id.ndl.go.jp/bib/000003509056
• UKMARC番号: G05673798
• 整理区分コード: 215