Ultrathin SiO2 and high-K materials for ULSI gate dielectrics : Symposium : Apr 1999, San Francisco, CA. (Materials Research Society Symposia Proceedings ; 567)

Ultrathin SiO2 and high-K materials for ULSI gate dielectrics : Symposium : Apr 1999, San Francisco, CA.

(Materials Research Society Symposia Proceedings ; 567)

国立国会図書館請求記号: M17-99-2158
国立国会図書館書誌ID: 000003509740

資料種別: 図書

著者: Materials Research Society.

出版者: Materials Research Society

出版年: 1999.

資料形態: 紙

ページ数・大きさ等: v.

NDC: -

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資料に関する注記

一般注記：: Papers.Held as part of the 1999 Materials Research Society spring meeting.Index term: MRS ; ULSI gate dielectrics ; ultrathin SiO2 materials ; high K ...

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書誌情報

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紙

資料種別: 図書
ISBN: 1558994742
ISSN: 0272-9172
タイトル: Ultrathin SiO2 and high-K materials for ULSI gate dielectrics : Symposium : Apr 1999, San Francisco, CA.
シリーズタイトル: Materials Research Society Symposia Proceedings ; 567
著者標目: Materials Research Society.
出版事項: Warrendale, PA : Materials Research Society
出版年月日等: 1999.
出版年（W3CDTF）: 1999
数量: v.
並列タイトル等: Held as part of the 1999 Materials Research Society spring meeting
MRS ; ULSI gate dielectrics ; ultrathin SiO2 materials ; high K materials
NDLC: M17
ND
一般注記: Papers.
Held as part of the 1999 Materials Research Society spring meeting.
Index term: MRS ; ULSI gate dielectrics ; ultrathin SiO2 materials ; high K materials.
BL shelfmark: 5396.412 vol 567 1999.
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: M17-99-2158
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000003509740
http://id.ndl.go.jp/bib/000003509740
UKMARC番号: G05895981
整理区分コード: 215