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フォトンファクトリー研究会「高度化軟X線光源の表面化学への新展開:静的表面から動的表面・界面へ」プロシーディングス (KEK proceedings ; 2001-13)

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フォトンファクトリー研究会「高度化軟X線光源の表面化学への新展開:静的表面から動的表面・界面へ」プロシーディングス

(KEK proceedings ; 2001-13)

国立国会図書館請求記号
MC231-H1
国立国会図書館書誌ID
000003576261
資料種別
図書
著者
横山利彦 [ほか]編
出版者
High Energy Accelerator Research Organization
出版年
2001.6
資料形態
ページ数・大きさ等
81p ; 30cm
NDC
425.5
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資料に関する注記

一般注記:

会期: 2001年3月22-23日

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
フォトン ファクトリー ケンキュウカイ コウドカ ナンXセン コウゲン ノ ヒョウメン カガク エノ シンテンカイ セイテキ ヒョウメン カラ ドウテキ ヒョウメン カイメン エ プロシーディングス
著者・編者
横山利彦 [ほか]編
シリーズタイトル
著者標目
横山, 利彦, 1960- ヨコヤマ, トシヒコ, 1960- ( 00889830 )典拠
フォトンファクトリー研究会 フォトン ファクトリー ケンキュウカイ ( 00742451 )典拠
出版年月日等
2001.6
出版年(W3CDTF)
2001
数量
81p