フォトンファクトリー研究会「高度化軟X線光源の表面化学への新展開:静的表面から動的表面・界面へ」プロシーディングス (KEK proceedings ; 2001-13)

フォトンファクトリー研究会「高度化軟X線光源の表面化学への新展開:静的表面から動的表面・界面へ」プロシーディングス

(KEK proceedings ; 2001-13)

Call No. (NDL): MC231-H1
Bibliographic ID of National Diet Library: 000003576261

Material type: 図書

Author: 横山利彦 [ほか]編

Publisher: High Energy Accelerator Research Organization

Publication date: 2001.6

Material Format: Paper

Capacity, size, etc.: 81p ; 30cm

NDC: 425.5

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Note (General)：: 会期: 2001年3月22-23日

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Paper

Material Type: 図書
Title: フォトンファクトリー研究会「高度化軟X線光源の表面化学への新展開:静的表面から動的表面・界面へ」プロシーディングス
Title Transcription: フォトンファクトリーケンキュウカイコウドカナンXセンコウゲンノヒョウメンカガクエノシンテンカイセイテキヒョウメンカラドウテキヒョウメンカイメンエプロシーディングス
Author/Editor: 横山利彦 [ほか]編
Series Title: KEK proceedings ; 2001-13
Author Heading: 横山, 利彦, 1960- ヨコヤマ, トシヒコ, 1960- ( 00889830 )Authorities
フォトンファクトリー研究会フォトンファクトリーケンキュウカイ ( 00742451 )Authorities
Publication, Distribution, etc.: [つくば] : High Energy Accelerator Research Organization
Publication Date: 2001.6
Publication Date (W3CDTF): 2001
Extent: 81p
Size: 30cm
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
Subject Heading: エックス線エックスセン ( 00561905 )Authorities
表面 (物理学) ヒョウメン (ブツリガク) ( 00576597 )Authorities
NDC 9th ed.: 425.5 : Optics
NDLC: MC231
Target Audience: 一般
Note (General): 会期: 2001年3月22-23日
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: MC231-H1
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000003576261
http://id.ndl.go.jp/bib/000003576261
National Bibliography No. (JPNO): 20341956
Cataloging Rule: Nippon Cataloguing Rules 1987 Revised Edition
Bibliographic Record Category (NDL): 111