22nd annual BACUS symposium on photomask technology : 1-4 October, 2002, Monterey, California, USA.

• 資料種別: 図書
• ISBN: 0819446750
• ISSN（シリーズ）: 0277-786X
• タイトル: 22nd annual BACUS symposium on photomask technology : 1-4 October, 2002, Monterey, California, USA.
• シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 4889
• タイトル標目: Proceedings of SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 4889.
• 著者標目: Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers.; Grenon, Brian J.; Kimmel, Kurt R.; Symposium on Photomask Technology (22nd : 2002 : Monterey, Calif.)
• 出版事項: Bellingham : SPIE
• 出版年月日等: c2002.
• 出版年（W3CDTF）: 2002
• 数量: 2 v. : ill. ; 28 cm.
• その他のタイトル: Oct 2002, Monterey, CA.
• 出版地（国名コード）: US
• 本文の言語コード: eng
• 件名標目: Integrated circuits -- Masks -- Congresses.; Microlithography -- Congresses.
• NDLC: M17
• 一般注記: Presentations and papers.
• 書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: M17-03-1175
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000004097463; http://id.ndl.go.jp/bib/000004097463
• RLIN番号: NYCGAVH9628-B
• 整理区分コード: 215