プリアモルファスシリコン層へのイオン注入による浅い接合形成に関する研究

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: プリアモルファスシリコン層へのイオン注入による浅い接合形成に関する研究
• タイトルよみ: プリ アモルファス シリコンソウ エノ イオン チュウニュウ ニ ヨル アサイ セツゴウ ケイセイ ニ カンスル ケンキュウ
• 著者・編者: 大野直次 [著]
• 著者標目: 大野, 直次 オオノ, ナオツグ
• 出版事項: [大野直次]
• 出版年月日等: 2002
• 出版年（W3CDTF）: 2002
• 数量: 1冊
• 授与機関名: 法政大学
• 授与年月日: 平成14年3月24日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2002
• 報告番号: 乙第143号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2003-D364
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000004109021; http://id.ndl.go.jp/bib/000004109021
• 整理区分コード: 213