Emerging lithographic technologies 7 : 25-27 February 2003 : Santa Clara, California, USA. : Feb 2003, Santa Clara, CA.

• 資料種別: 図書
• ISBN: 0819448427
• ISSN（シリーズ）: 0277-786X
• タイトル: Emerging lithographic technologies 7 : 25-27 February 2003 : Santa Clara, California, USA. : Feb 2003, Santa Clara, CA.
• シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 5037
• タイトル標目: Proceedings of SPIE -- the International Society for Optical Engineering. v. 5037.
• 著者標目: Semiconductor Equipment and Materials International (SEMI); Engelstad, Roxann L.; International SEMATECH.
• 出版事項: Bellingham : SPIE
• 出版年月日等: c2003.
• 出版年（W3CDTF）: 2003
• 数量: 2 parts : ill. ; 28 cm.
• 出版地（国名コード）: US
• 本文の言語コード: eng
• 件名標目: Lithography, Electron beam -- Congresses.; Microlithography -- Industrial applications -- Congresses.; X-ray lithography -- Congresses.; X-rays -- Industrial applications -- Congresses.; Masks (Electronics) -- Congresses.
• NDLC: M17
• 一般注記: Papers.
• 書誌注記: Includes bibliographic references and author index.
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: M17-04-204
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000004190073; http://id.ndl.go.jp/bib/000004190073
• RLIN番号: MOHG52543912-B
• 整理区分コード: 215