Advances in resist technology and processing 20 : 24-26 February 2003 : Santa Clara, California, USA. : 20th annual SPIE conference on advances in resist technology and processing : Feb 2003, Santa Clara, CA. (SPIE Proceedings ; 5039)

Advances in resist technology and processing 20 : 24-26 February 2003 : Santa Clara, California, USA. : 20th annual SPIE conference on advances in resist technology and processing : Feb 2003, Santa Clara, CA.

(SPIE Proceedings ; 5039)

国立国会図書館請求記号: M17-04-259
国立国会図書館書誌ID: 000004190132

資料種別: 図書

著者: International SEMATECH.ほか

出版者: SPIE

出版年: c2003.

資料形態: 紙

ページ数・大きさ等: 2 parts : ill. ; 28 cm.

NDC: -

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一般注記：: Papers.

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書誌情報

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紙

資料種別: 図書
ISBN: 0819448443
ISSN（シリーズ）: 0277-786X
タイトル: Advances in resist technology and processing 20 : 24-26 February 2003 : Santa Clara, California, USA. : 20th annual SPIE conference on advances in resist technology and processing : Feb 2003, Santa Clara, CA.
シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 5039
タイトル標目: Proceedings of SPIE -- the International Society for Optical Engineering. v. 5039.
著者標目: International SEMATECH.
Fedynyshyn, Theodore H., 1952-
Semiconductor Equipment and Materials International (SEMI)
出版事項: Bellingham : SPIE
出版年月日等: c2003.
出版年（W3CDTF）: 2003
数量: 2 parts : ill. ; 28 cm.
出版地（国名コード）: US
本文の言語コード: eng
件名標目: Photoresists -- Congresses.
Microlithography -- Congresses.
NDLC: M17
一般注記: Papers.
書誌注記: Includes bibliographic references and author index.
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: M17-04-259
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000004190132
http://id.ndl.go.jp/bib/000004190132
RLIN番号: MOHG52544187-B
整理区分コード: 215