Fundamental gas-phase and surface chemistry of vapor-phase deposition 2 : and : process control, diagnostics, and modeling in semiconductor manufacturing 4 : proceedings of the internatioal symposia. : ------. (PV ; 01-13)

Fundamental gas-phase and surface chemistry of vapor-phase deposition 2 : and : process control, diagnostics, and modeling in semiconductor manufacturing 4 : proceedings of the internatioal symposia. : ------.

(PV ; 01-13)

国立国会図書館請求記号: M17-03-4580
国立国会図書館書誌ID: 000004244016

資料種別: 図書

著者: Swihart, Mark T.ほか

出版者: Electrochemical Society, Inc.

出版年: c2001.

資料形態: 紙

ページ数・大きさ等: ix, 508 p. : ill. ; 26 cm.

NDC: -

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資料に関する注記

一般注記：: Papers."High Temperature Materials and Dielectric Science and Technology Divisions" -- t. p.

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書誌情報

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紙

資料種別: 図書
ISBN: 1566773199
タイトル: Fundamental gas-phase and surface chemistry of vapor-phase deposition 2 : and : process control, diagnostics, and modeling in semiconductor manufacturing 4 : proceedings of the internatioal symposia. : ------.
シリーズタイトル: PV ; 01-13
タイトル標目: Proceedings (Electrochemical Society) ; v. 2001-13.
著者標目: Swihart, Mark T.
Allendorf, Mark Donald.
Meyyapan, M.
Symposium on Fundamental Gas-Phase and Surface Chemistry of Vaper-Phase Materials Synthesis (2nd : 2001 : Washington, D.C.)
出版事項: Pennington : Electrochemical Society, Inc.
出版年月日等: c2001.
出版年（W3CDTF）: 2001
数量: ix, 508 p. : ill. ; 26 cm.
出版地（国名コード）: US
本文の言語コード: eng
件名標目: Surface chemistry -- Congresses.
Gases, Ionized -- Congresses.
Chemical vapor deposition -- Congresses.
NDLC: M17
一般注記: Papers.
"High Temperature Materials and Dielectric Science and Technology Divisions" -- t. p.
書誌注記: Incudes bibliographical references and indexes.
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: M17-03-4580
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000004244016
http://id.ndl.go.jp/bib/000004244016
LC control number: 2001092515
https://lccn.loc.gov/2001092515
RLIN番号: CUBGGLAD184905560-B
整理区分コード: 215