Emerging lithographic technologies 5 : 27 February-1 March 2001 : Santa Clara, USA. : SPIE microlithography symposium : Feb 2001, Santa Clara, CA. (SPIE Proceedings ; 4343)

Emerging lithographic technologies 5 : 27 February-1 March 2001 : Santa Clara, USA. : SPIE microlithography symposium : Feb 2001, Santa Clara, CA.

(SPIE Proceedings ; 4343)

国立国会図書館請求記号: M17-03-4890
国立国会図書館書誌ID: 000004247559

資料種別: 図書

著者: Semiconductor Equipment and Materials International (SEMI)ほか

出版者: SPIE

出版年: c2001.

資料形態: 紙

ページ数・大きさ等: xv, 818 p. : ill. (some col.) ; 27 cm.

NDC: -

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資料に関する注記

一般注記：: Papers."The conference was part of the SPIE Microlithography Symposium and its point of focus was on post optical lithographies." -- introd.

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書誌情報

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紙

資料種別: 図書
ISBN: 0819440299
ISSN（シリーズ）: 0277-786X
タイトル: Emerging lithographic technologies 5 : 27 February-1 March 2001 : Santa Clara, USA. : SPIE microlithography symposium : Feb 2001, Santa Clara, CA.
シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 4343
タイトル標目: Proceedings of SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 4343.
著者標目: Semiconductor Equipment and Materials International (SEMI)
Dobisz, Elizabeth Ann.
International SEMATECH.
出版事項: Bellingham : SPIE
出版年月日等: c2001.
出版年（W3CDTF）: 2001
数量: xv, 818 p. : ill. (some col.) ; 27 cm.
出版地（国名コード）: US
本文の言語コード: eng
件名標目: Lithography, Electron beam -- Congresses.
Microlithography -- Industrial applications -- Congresses.
X-ray lithography -- Congresses.
X-rays -- Industrial applications -- Congresses.
Masks (Electronics) -- Congresses.
NDLC: M17
一般注記: Papers.
"The conference was part of the SPIE Microlithography Symposium and its point of focus was on post optical lithographies." -- introd.
書誌注記: Includes bibliographic references and author index.
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: M17-03-4890
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000004247559
http://id.ndl.go.jp/bib/000004247559
RLIN番号: CSUGA4680365-B
整理区分コード: 215