Metrology, inspection, and process control for microlithography 15 : 26 February-1 March 2001 : Santa Clara, USA. : Mar 2001, Santa Clara, CA. (SPIE Proceedings ; 4344)

Metrology, inspection, and process control for microlithography 15 : 26 February-1 March 2001 : Santa Clara, USA. : Mar 2001, Santa Clara, CA.

(SPIE Proceedings ; 4344)

国立国会図書館請求記号: M17-03-4943
国立国会図書館書誌ID: 000004247579

資料種別: 図書

著者: Semiconductor Equipment and Materials International (SEMI)ほか

出版者: SPIE

出版年: c2001.

資料形態: 紙

ページ数・大きさ等: xxv, 876 p. : ill. ; 28 cm.

NDC: -

すべて見る

資料に関する注記

一般注記：: Papers.

書店で探す

全国の図書館の所蔵

国立国会図書館以外の全国の図書館の所蔵状況を表示します。

連携機関・データベースの一覧

所蔵のある図書館から取寄せることが可能かなど、資料の利用方法は、ご自身が利用されるお近くの図書館へご相談ください

その他

CiNii Research
検索サービス
紙
連携先のサイトで、CiNii Researchが連携している機関・データベースの所蔵状況を確認できます。
この本の所蔵を確認

書店で探す

書誌情報

この資料の詳細や典拠（同じ主題の資料を指すキーワード、著者名）等を確認できます。

紙

資料種別: 図書
ISBN: 0819440302
ISSN（シリーズ）: 0277-786X
タイトル: Metrology, inspection, and process control for microlithography 15 : 26 February-1 March 2001 : Santa Clara, USA. : Mar 2001, Santa Clara, CA.
シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 4344
タイトル標目: Proceedings of SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 4344.
著者標目: Semiconductor Equipment and Materials International (SEMI)
Sullivan, Neal T.
International SEMATECH.
出版事項: Bellingham : SPIE
出版年月日等: c2001.
出版年（W3CDTF）: 2001
数量: xxv, 876 p. : ill. ; 28 cm.
出版地（国名コード）: US
本文の言語コード: eng
件名標目: Integrated circuits -- Inspection -- Congresses.
Integrated circuits -- Measurement -- Congresses.
Microlithography -- Congresses.
Process control -- Congresses.
NDLC: M17
一般注記: Papers.
書誌注記: Includes bibliographic references and author index.
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: M17-03-4943
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000004247579
http://id.ndl.go.jp/bib/000004247579
RLIN番号: CSUGA4680363-B
整理区分コード: 215