Advances in resist technology and processing 18 : 26-28 February 2001 : Santa Clara, USA. : 18th annual SPIE conference on advances in resist technology and processing : Feb 2001, Santa Clara, CA. (SPIE Proceedings ; 4345)

Advances in resist technology and processing 18 : 26-28 February 2001 : Santa Clara, USA. : 18th annual SPIE conference on advances in resist technology and processing : Feb 2001, Santa Clara, CA.

(SPIE Proceedings ; 4345)

国立国会図書館請求記号: M17-03-4946
国立国会図書館書誌ID: 000004247611

資料種別: 図書

著者: Semiconductor Equipment and Materials International (SEMI)ほか

出版者: SPIE

出版年: c2001.

資料形態: 紙

ページ数・大きさ等: 2 parts : ill. ; 28 cm.

NDC: -

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一般注記：: Papers.

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書誌情報

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紙

資料種別: 図書
ISBN: 0819440310
ISSN（シリーズ）: 0277-786X
タイトル: Advances in resist technology and processing 18 : 26-28 February 2001 : Santa Clara, USA. : 18th annual SPIE conference on advances in resist technology and processing : Feb 2001, Santa Clara, CA.
シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 4345
タイトル標目: Proceedings of SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 4345.
著者標目: Semiconductor Equipment and Materials International (SEMI)
Houlihan, Francis M.
International SEMATECH.
出版事項: Bellingham : SPIE
出版年月日等: c2001.
出版年（W3CDTF）: 2001
数量: 2 parts : ill. ; 28 cm.
出版地（国名コード）: US
本文の言語コード: eng
件名標目: Photoresists -- Congresses.
Microlithography -- Congresses.
LCC: TR940
DDC: 621.3815/31
NDLC: M17
一般注記: Papers.
書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: M17-03-4946
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000004247611
http://id.ndl.go.jp/bib/000004247611
LC control number: 2002283519
https://lccn.loc.gov/2002283519
RLIN番号: DCLC2002283519-B
整理区分コード: 215