シリコンプロセスにおける微量不純物測定技術 : 超々LSI実現への鍵

• 資料種別: 図書
• タイトル: シリコンプロセスにおける微量不純物測定技術 : 超々LSI実現への鍵
• タイトルよみ: シリコン プロセス ニ オケル ビリョウ フジュンブツ ソクテイ ギジュツ : チョウチョウ LSI ジツゲン エノ カギ
• シリーズタイトル: 応用物理学会スクール : テキスト ; 第12回
• 著者標目: 応用物理学会 オウヨウ ブツリ ガッカイ ( 00281497 )典拠
• 出版事項: 東京 : 応用物理学会
• 出版年月日等: 1993.3
• 出版年（W3CDTF）: 1993
• 数量: 107p
• 大きさ: 26cm
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: 大規模集積回路--論文集 ダイキボシュウセキカイロ ロンブンシュウ ( 01089588 )典拠
• NDC9版: 549.7 : 電子工学
• NDLC: ND386
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: 会期・会場: 1993年3月28日 青山学院大学青山キャンパス; JSAP catalog no.AP931308
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: ND386-H71
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000004347148; http://id.ndl.go.jp/bib/000004347148
• 全国書誌番号: 20577337
• 目録規則: 日本目録規則1987年版改訂版
• 整理区分コード: 111

目次

プログラム（目次）

「シリコンプロセスにおける微量不純物測定技術」-超々LSI実現への鍵-

11:00 不純物汚染とデバイスへの影響/ 1

11:30 結晶欠陥制御と不純物分析/ 14

12:30〜13:30 昼食