シリコンプロセスにおける微量不純物測定技術 : 超々LSI実現への鍵

• Material Type: 図書
• Title: シリコンプロセスにおける微量不純物測定技術 : 超々LSI実現への鍵
• Title Transcription: シリコン プロセス ニ オケル ビリョウ フジュンブツ ソクテイ ギジュツ : チョウチョウ LSI ジツゲン エノ カギ
• Series Title: 応用物理学会スクール : テキスト ; 第12回
• Author Heading: 応用物理学会 オウヨウ ブツリ ガッカイ ( 00281497 )Authorities
• Publication, Distribution, etc.: 東京 : 応用物理学会
• Publication Date: 1993.3
• Publication Date (W3CDTF): 1993
• Extent: 107p
• Size: 26cm
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Subject Heading: 大規模集積回路--論文集 ダイキボシュウセキカイロ ロンブンシュウ ( 01089588 )Authorities
• NDC 9th ed.: 549.7 : Electronic engineering
• NDLC: ND386
• Target Audience: 一般
• Note (General): 会期・会場: 1993年3月28日 青山学院大学青山キャンパス; JSAP catalog no.AP931308
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: ND386-H71
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000004347148; http://id.ndl.go.jp/bib/000004347148
• National Bibliography No. (JPNO): 20577337
• Cataloging Rule: Nippon Cataloguing Rules 1987 Revised Edition
• Bibliographic Record Category (NDL): 111

Table of Contents

プログラム（目次）

「シリコンプロセスにおける微量不純物測定技術」-超々LSI実現への鍵-

11:00 不純物汚染とデバイスへの影響/ 1

11:30 結晶欠陥制御と不純物分析/ 14

12:30〜13:30 昼食