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サブ100nm CMOSトランジスタ技術の動向と展望 (応用物理学会スクールB : テキスト ; 第28回)

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サブ100nm CMOSトランジスタ技術の動向と展望

(応用物理学会スクールB : テキスト ; 第28回)

国立国会図書館請求記号
ND371-H47
国立国会図書館書誌ID
000004347187
資料種別
図書
著者
応用物理学会
出版者
応用物理学会
出版年
2001.3
資料形態
ページ数・大きさ等
110p ; 30cm
NDC
549.6
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資料に関する注記

一般注記:

会期・会場: 2001年3月30日 明治大学駿河台キャンパスJSAP catalog no.AP011312

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目次

  • プログラム(目次)

  • サブ100nm CMOSトランジスタ技術の動向と展望

  • 9:30 サブ100nm世代のCMOS技術の動向と展望/ 1

    小柳光正(東北大学)

  • 10:00 ゲート絶縁膜技術 (SiO2系ゲート絶縁膜とその信頼性)-現象の整理と課題抽出-/ 21

    鳥海明(東京大学)

  • 11:00 ゲート絶縁膜技術(高誘電率ゲート絶縁膜)/ 35

    宮崎誠一(広島大学)

書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
サブ 100nm CMOS トランジスタ ギジュツ ノ ドウコウ ト テンボウ
著者標目
応用物理学会 オウヨウ ブツリ ガッカイ ( 00281497 )典拠
出版年月日等
2001.3
出版年(W3CDTF)
2001
数量
110p
大きさ
30cm