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次世代材料用新薄膜作製技術の基礎と応用 (応用物理学会スクールB : テキスト ; 第31回)

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次世代材料用新薄膜作製技術の基礎と応用

(応用物理学会スクールB : テキスト ; 第31回)

国立国会図書館請求記号
ND371-H48
国立国会図書館書誌ID
000004347195
資料種別
図書
著者
応用物理学会
出版者
応用物理学会
出版年
2002.9
資料形態
ページ数・大きさ等
142p ; 30cm
NDC
549.8
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資料に関する注記

一般注記:

会期・会場: 2002年9月27日 新潟大学五十嵐キャンパスJSAP catalog no.AP021340

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目次

  • プログラム(目次)

  • 次世代材料用新薄膜作製技術の基礎と応用

  • 9:00 薄膜作製技術の歴史と意義/ 1

    白木靖寛(東京大学)

  • 9:15 新規強誘電体メモリ用薄膜の作製/ 11

    石原宏(東京工業大学)||木島健(新機能素子研究開発協会;現セイコーエプソン)

  • 10:05 コンビナトリアルテクノロジー:集積化薄膜技術による材料開発の高速化/ 27

    鯉沼秀臣(東京工業大学)

書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
ジセダイ ザイリョウヨウ シン ハクマク サクセイ ギジュツ ノ キソ ト オウヨウ
著者標目
応用物理学会 オウヨウ ブツリ ガッカイ ( 00281497 )典拠
出版年月日等
2002.9
出版年(W3CDTF)
2002
数量
142p
大きさ
30cm