In situ analysis of thin film deposition processes using time-of-flight (TOF) ion beam analysis methods

• 資料種別: 規格・テクニカルリポート類
• タイトル: In situ analysis of thin film deposition processes using time-of-flight (TOF) ion beam analysis methods
• 著者・編者: Im, J; Krauss, A. R; Gruen, D. M; Lin, Y; Schultz, J. A
• 出版年月日等: 1995
• 出版年（W3CDTF）: 1995
• 数量: 29 p. (1 microfiche)
• 資料種別（注記）: [microform]
• リポート番号: テクニカルリポート番号 : ANL/CHM/CP-85678; テクニカルリポート番号 : DE95 013546; テクニカルリポート番号 : CONF-95051223
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: LS-DE95/013546
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000005539269; http://id.ndl.go.jp/bib/000005539269
• 整理区分コード: 291