Optimization of x-ray sources for proximity lithography produced by a high average power Nd:glass laser. Revision 1

• 資料種別: 規格・テクニカルリポート類
• タイトル: Optimization of x-ray sources for proximity lithography produced by a high average power Nd:glass laser. Revision 1
• 著者・編者: Celliers, P; DaSilva, L. B; Dane, C. B
• 出版年月日等: 1995
• 出版年（W3CDTF）: 1995
• 数量: 51 p. (1 microfiche)
• 資料種別（注記）: [microform]
• リポート番号: テクニカルリポート番号 : UCRL-CR-121294-Rev.1; テクニカルリポート番号 : DE96 004050
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: LS-DE96/004050
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000005544277; http://id.ndl.go.jp/bib/000005544277
• 整理区分コード: 291