Energetic ion beams in semiconductor processing: Summary of a DOE panel study

• 資料種別: 規格・テクニカルリポート類
• タイトル: Energetic ion beams in semiconductor processing: Summary of a DOE panel study
• 著者・編者: Picraux, S. T; Cchason, E; Poate, J. M
• 出版年月日等: 1995
• 出版年（W3CDTF）: 1995
• 数量: 10 p. (1 microfiche)
• 資料種別（注記）: [microform]
• リポート番号: テクニカルリポート番号 : SAND-95-1453C; テクニカルリポート番号 : DE96 006978; テクニカルリポート番号 : CONF-95115584-SUMM
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: LS-DE96/006978
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000005560380; http://id.ndl.go.jp/bib/000005560380
• 整理区分コード: 291