Chemical vapor deposition of ternary refractory nitrides for diffusion barrier applications

• 資料種別: 規格・テクニカルリポート類
• タイトル: Chemical vapor deposition of ternary refractory nitrides for diffusion barrier applications
• 著者・編者: Smith, P. M; Custer, J. S; Fleming, J. G; Roherty-Osmun, E; Cohn, M
• 出版年月日等: 1996
• 出版年（W3CDTF）: 1996
• 数量: 6 p. (1 microfiche)
• 資料種別（注記）: [microform]
• リポート番号: テクニカルリポート番号 : SAND-96-0701C; テクニカルリポート番号 : DE96 011817; テクニカルリポート番号 : CONF-96061042
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: LS-DE96/011817
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000005855450; http://id.ndl.go.jp/bib/000005855450
• 整理区分コード: 291