ECR etching of GaP, GaAs, InP, and InGaAs in Cl(sub 2)/Ar, Cl(sub 2)/N(sub 2), BCl(sub 3)/Ar, and BCl(sub 3)/N(sub 2) SAND-96-1143C DE96 010521 CONF-96040139

ECR etching of GaP, GaAs, InP, and InGaAs in Cl(sub 2)/Ar, Cl(sub 2)/N(sub 2), BCl(sub 3)/Ar, and BCl(sub 3)/N(sub 2)

SAND-96-1143C DE96 010521 CONF-96040139

国立国会図書館請求記号: LS-DE96/010521
国立国会図書館書誌ID: 000005856020

資料種別: 規格・テクニカルリポート類

著者: Shul, R. Jほか

出版者: -

出版年: 1996

資料形態: マイクロ

ページ数・大きさ等: 6 p. (1 microfiche)

NDC: -

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書誌情報

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マイクロ

資料種別: 規格・テクニカルリポート類
タイトル: ECR etching of GaP, GaAs, InP, and InGaAs in Cl(sub 2)/Ar, Cl(sub 2)/N(sub 2), BCl(sub 3)/Ar, and BCl(sub 3)/N(sub 2)
著者・編者: Shul, R. J
Baca, A. G
Rieger, D. J
Hou, H
Pearton, S. J
出版年月日等: 1996
出版年（W3CDTF）: 1996
数量: 6 p. (1 microfiche)
資料種別（注記）: [microform]
リポート番号: テクニカルリポート番号 : SAND-96-1143C
テクニカルリポート番号 : DE96 010521
テクニカルリポート番号 : CONF-96040139
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: LS-DE96/010521
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000005856020
http://id.ndl.go.jp/bib/000005856020
整理区分コード: 291