Selective, deep Si trench etching with dimensional control

• 資料種別: 規格・テクニカルリポート類
• タイトル: Selective, deep Si trench etching with dimensional control
• 著者・編者: Shul, R. J; Willison, C. G; Zhang, L
• 出版年月日等: 1998
• 出版年（W3CDTF）: 1998
• 数量: 10 p. (1 microfiche)
• 資料種別（注記）: [microform]
• リポート番号: テクニカルリポート番号 : SAND980490C; テクニカルリポート番号 : DE98 006147; テクニカルリポート番号 : CONF980918
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: LS-DE98/006147
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000005896189; http://id.ndl.go.jp/bib/000005896189
• 整理区分コード: 291