The results of an interlaboratory study of ellipsometric measurements of thin film silicon dioxide on silicon [microform] / Barbara J. Belzer and David L. Blackburn

• 資料種別: 図書
• タイトル: The results of an interlaboratory study of ellipsometric measurements of thin film silicon dioxide on silicon [microform] / Barbara J. Belzer and David L. Blackburn
• シリーズタイトル: Semiconductor measurement technology; NIST special publication ; 400-99
• 著者標目: Belzer, Barbara J; Blackburn, David L; National Institute of Standards and Technology (U.S.)
• 出版年（W3CDTF）: 1997
• 数量: microfiche
• 大きさ: 11 × 15 cm
• 並列タイトル等: Results of an interlaboratory study of ellipsometric measurements of thin film silicon dioxide on silicon
• 出版地（国名コード）: US
• 本文の言語コード: eng
• 資料種別（注記）: [microform]
• 件名標目: Silica -- United States; Ellipsometry
• 一般注記: Shipping list no.: 98-0569-M; Paper version no longer for sale by the Supt. of Docs; "May 1997."; Physical description for original version: iv, 25 p. : 28 cm
• 書誌注記: Includes bibliographical references (p. 6)
• 原資料等に関する注記: 原資料の出版事項: Gaithersburg, MD : U.S. Dept. of Commerce, Technology Administration, National Institute of Standards and Technology, 1997; SUPTDOC番号: C 13.10: 400-99; GPO管理番号: 0247 (MF)
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: YCA-C 13.10:400-99
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000006613283; http://id.ndl.go.jp/bib/000006613283
• OCLC番号: 39244575; https://www.worldcat.org/oclc/39244575
• 整理区分コード: 281