in situ光堆積法によるInPMIS電界効果トランジスタ用ゲート絶縁膜の研究

• 資料種別: 図書
• タイトル: in situ光堆積法によるInPMIS電界効果トランジスタ用ゲート絶縁膜の研究
• タイトルよみ: in situ ヒカリ タイセキホウ ニ ヨル InPMIS デンカイ コウカ トランジスタヨウ ゲート ゼツエンマク ノ ケンキュウ
• 著者・編者: 菅野, 卓雄, 東京大学
• 著者標目: 菅野, 卓雄 スガノ, タクオ
• 出版年月日等: 1989-1991
• 出版年（W3CDTF）: 1989
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 一般研究(B)
• 件名標目: インゾウムリン インゾウムリン; 電界効果トランジスタ デンカイコウカトランジスタ; 光堆積法 ヒカリタイセキホウ; ゲート絶縁膜 ゲートゼツエンマク; 応力 オウリヨク; 表面再結合速度 ヒヨウメンサイケツゴウソクド; レーザラマン分光 レーザラマンブンコウ
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 01460135
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H01460135
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000006974029; http://id.ndl.go.jp/bib/000006974029
• 整理区分コード: 214