in situ光堆積法によるInPMIS電界効果トランジスタ用ゲート絶縁膜の研究

• Material Type: 図書
• Title: in situ光堆積法によるInPMIS電界効果トランジスタ用ゲート絶縁膜の研究
• Title Transcription: in situ ヒカリ タイセキホウ ニ ヨル InPMIS デンカイ コウカ トランジスタヨウ ゲート ゼツエンマク ノ ケンキュウ
• Author/Editor: 菅野, 卓雄, 東京大学
• Author Heading: 菅野, 卓雄 スガノ, タクオ
• Publication Date: 1989-1991
• Publication Date (W3CDTF): 1989
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 一般研究(B)
• Subject Heading: インゾウムリン インゾウムリン; 電界効果トランジスタ デンカイコウカトランジスタ; 光堆積法 ヒカリタイセキホウ; ゲート絶縁膜 ゲートゼツエンマク; 応力 オウリヨク; 表面再結合速度 ヒヨウメンサイケツゴウソクド; レーザラマン分光 レーザラマンブンコウ
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 01460135
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H01460135
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000006974029; http://id.ndl.go.jp/bib/000006974029
• Bibliographic Record Category (NDL): 214