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光・プラズマ2重励起による半導体SiCの低温エピタキシヤル成長

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光・プラズマ2重励起による半導体SiCの低温エピタキシヤル成長

国立国会図書館請求記号
Y151-H01550016
国立国会図書館書誌ID
000006975161
資料種別
図書
著者
西野, 茂弘, 京都工芸繊維大学
出版者
-
出版年
1989-1990
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
ヒカリ ・ プラズマ 2 ジュウレイキ ニ ヨル ハンドウタイ SiC ノ テイオン エピタキシヤル セイチョウ
著者・編者
西野, 茂弘, 京都工芸繊維大学
著者標目
西野, 茂弘 ニシノ, シゲヒロ
出版年月日等
1989-1990
出版年(W3CDTF)
1989
数量
その他のタイトル
研究種目 一般研究(C)
件名標目
プラズマCVD プラズマCVD
光CVD ヒカリCVD
減圧CVD ゲンアツCVD
立方晶SiC リツポウシヨウSIC
3C SiC 3CSIC
ヘテロエピタキシー ヘテロエピタキシー
結晶成長 ケツシヨウセイチヨウ
低温成長 テイオンセイチヨウ