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光・プラズマ2重励起による半導体SiCの低温エピタキシヤル成長

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光・プラズマ2重励起による半導体SiCの低温エピタキシヤル成長

Call No. (NDL)
Y151-H01550016
Bibliographic ID of National Diet Library
000006975161
Material type
図書
Author
西野, 茂弘, 京都工芸繊維大学
Publisher
-
Publication date
1989-1990
Material Format
Paper
Capacity, size, etc.
-
NDC
-
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Notes on use

Note (General):

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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Bibliographic Record

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Paper

Material Type
図書
Title Transcription
ヒカリ ・ プラズマ 2 ジュウレイキ ニ ヨル ハンドウタイ SiC ノ テイオン エピタキシヤル セイチョウ
Author/Editor
西野, 茂弘, 京都工芸繊維大学
Author Heading
西野, 茂弘 ニシノ, シゲヒロ
Publication Date
1989-1990
Publication Date (W3CDTF)
1989
Extent
Additional Title
研究種目 一般研究(C)
Subject Heading
プラズマCVD プラズマCVD
光CVD ヒカリCVD
減圧CVD ゲンアツCVD
立方晶SiC リツポウシヨウSIC
3C SiC 3CSIC
ヘテロエピタキシー ヘテロエピタキシー
結晶成長 ケツシヨウセイチヨウ
低温成長 テイオンセイチヨウ