低周波50HzプラズマCVD法によるカーボン薄膜の低温形成プロセスの開発

• 資料種別: 図書
• タイトル: 低周波50HzプラズマCVD法によるカーボン薄膜の低温形成プロセスの開発
• タイトルよみ: テイシュウハ 50Hz プラズマ CVD ホウ ニ ヨル カーボン ハクマク ノ テイオン ケイセイ プロセス ノ カイハツ
• 著者・編者: 下妻, 光夫, 北海道大学
• 著者標目: 下妻, 光夫 シモヅマ, ミツオ
• 出版年月日等: 1990-1992
• 出版年（W3CDTF）: 1990
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 試験研究(B)
• 件名標目: 低周波プラズマCVD法 テイシユウハプラズマCVDホウ; CH4+H2混合ガス CH4+H2コンゴウガス; ドライプロセス ドライプロセス; 薄膜堆積 ハクマクタイセキ; アモルフアスカーボン膜 アモルフアスカーボンマク; ダイヤモンド薄膜 ダイヤモンドハクマク; 半導体低温プロセス ハンドウタイテイオンプロセス; RFプラズマCVD法 RFプラズマCVDホウ
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 02555056
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H02555056
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000006978746; http://id.ndl.go.jp/bib/000006978746
• 整理区分コード: 214