低周波50HzプラズマCVD法によるカーボン薄膜の低温形成プロセスの開発

• Material Type: 図書
• Title: 低周波50HzプラズマCVD法によるカーボン薄膜の低温形成プロセスの開発
• Title Transcription: テイシュウハ 50Hz プラズマ CVD ホウ ニ ヨル カーボン ハクマク ノ テイオン ケイセイ プロセス ノ カイハツ
• Author/Editor: 下妻, 光夫, 北海道大学
• Author Heading: 下妻, 光夫 シモヅマ, ミツオ
• Publication Date: 1990-1992
• Publication Date (W3CDTF): 1990
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 試験研究(B)
• Subject Heading: 低周波プラズマCVD法 テイシユウハプラズマCVDホウ; CH4+H2混合ガス CH4+H2コンゴウガス; ドライプロセス ドライプロセス; 薄膜堆積 ハクマクタイセキ; アモルフアスカーボン膜 アモルフアスカーボンマク; ダイヤモンド薄膜 ダイヤモンドハクマク; 半導体低温プロセス ハンドウタイテイオンプロセス; RFプラズマCVD法 RFプラズマCVDホウ
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 02555056
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H02555056
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000006978746; http://id.ndl.go.jp/bib/000006978746
• Bibliographic Record Category (NDL): 214