放射光励起ガスソースCVDによる高誘電体薄膜の低温形成

• 資料種別: 図書
• タイトル: 放射光励起ガスソースCVDによる高誘電体薄膜の低温形成
• タイトルよみ: ホウシャコウレイキガスソース CVD ニ ヨル コウユウデンタイ ハクマク ノ テイオン ケイセイ
• 著者・編者: 庭野, 道夫, 東北大学
• 著者標目: 庭野, 道夫 ニワノ, ミチオ
• 出版年月日等: 1991-1993
• 出版年（W3CDTF）: 1991
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 一般研究(B)
• 件名標目: 放射光 ホウシヤコウ; 高誘電体薄膜 コウユウデンタイハクマク; 低温薄膜形成 テイオンハクマクケイセイ; 半導体表面 ハンドウタイヒヨウメン; 光励起反応 ヒカリレイキハンノウ; CVD CVD
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 03452149
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H03452149
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000006981896; http://id.ndl.go.jp/bib/000006981896
• 整理区分コード: 214