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図書
放射光励起ガスソースCVDによる高誘電体薄膜の低温形成
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放射光励起ガスソースCVDによる高誘電体薄膜の低温形成
国立国会図書館請求記号
Y151-H03452149
国立国会図書館書誌ID
000006981896
資料種別
図書
著者
庭野, 道夫, 東北大学
出版者
-
出版年
1991-1993
資料形態
紙
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記
一般注記:
文部省科学研究費補助金研究成果報告書
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書誌情報
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紙
資料種別
図書
タイトル
放射光励起ガスソースCVDによる高誘電体薄膜の低温形成
タイトルよみ
ホウシャコウレイキガスソース CVD ニ ヨル コウユウデンタイ ハクマク ノ テイオン ケイセイ
著者・編者
庭野, 道夫, 東北大学
著者標目
庭野, 道夫
ニワノ, ミチオ
出版年月日等
1991-1993
出版年(W3CDTF)
1991
数量
冊
その他のタイトル
研究種目 一般研究(B)
件名標目
放射光
ホウシヤコウ
高誘電体薄膜
コウユウデンタイハクマク
低温薄膜形成
テイオンハクマクケイセイ
半導体表面
ハンドウタイヒヨウメン
光励起反応
ヒカリレイキハンノウ
CVD
CVD
NDLC
Y151
一般注記
文部省科学研究費補助金研究成果報告書
科研費課題番号
03452149
所蔵機関
国立国会図書館
請求記号
Y151-H03452149
連携機関・データベース
国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID(NDLBibID)
000006981896
http://id.ndl.go.jp/bib/000006981896
整理区分コード
214
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