放射光励起ガスソースCVDによる高誘電体薄膜の低温形成

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Material Type: 図書
Title: 放射光励起ガスソースCVDによる高誘電体薄膜の低温形成
Title Transcription: ホウシャコウレイキガスソース CVD ニヨルコウユウデンタイハクマクノテイオンケイセイ
Author/Editor: 庭野, 道夫, 東北大学
Author Heading: 庭野, 道夫ニワノ, ミチオ
Publication Date: 1991-1993
Publication Date (W3CDTF): 1991
Extent: 冊
Additional Title: 研究種目一般研究(B)
Subject Heading: 放射光ホウシヤコウ
高誘電体薄膜コウユウデンタイハクマク
低温薄膜形成テイオンハクマクケイセイ
半導体表面ハンドウタイヒヨウメン
光励起反応ヒカリレイキハンノウ
CVD CVD
NDLC: Y151
Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 03452149
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Y151-H03452149
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000006981896
http://id.ndl.go.jp/bib/000006981896
Bibliographic Record Category (NDL): 214