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新規な流動層反応装置を利用したシリコン系粉体製造プロセスの開発

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新規な流動層反応装置を利用したシリコン系粉体製造プロセスの開発

国立国会図書館請求記号
Y151-H03555174
国立国会図書館書誌ID
000006982927
資料種別
図書
著者
小島, 紀徳, 成蹊大学
出版者
-
出版年
1991-1993
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
シンキ ナ リュウドウソウ ハンノウ ソウチ オ リヨウ シタ シリコンケイ フンタイ セイゾウ プロセス ノ カイハツ
著者・編者
小島, 紀徳, 成蹊大学
著者標目
著者 : 小島, 紀徳, 1953- コジマ, トシノリ, 1953- ( 00220096 )典拠
成蹊大学 セイケイ ダイガク ( 00702534 )典拠
出版年月日等
1991-1993
出版年(W3CDTF)
1991
数量
その他のタイトル
研究種目 試験研究(B)
件名標目
流動層 リユウドウソウ
CVD CVD
粒子コーテイング リユウシコーテイング
直流プラズマ チヨクリユウプラズマ
マイクロ波プラズマ マイクロハプラズマ
炭化珪素 タンカケイソ