新規な流動層反応装置を利用したシリコン系粉体製造プロセスの開発

• Material Type: 図書
• Title: 新規な流動層反応装置を利用したシリコン系粉体製造プロセスの開発
• Title Transcription: シンキ ナ リュウドウソウ ハンノウ ソウチ オ リヨウ シタ シリコンケイ フンタイ セイゾウ プロセス ノ カイハツ
• Author/Editor: 小島, 紀徳, 成蹊大学
• Author Heading: 著者 ： 小島, 紀徳, 1953- コジマ, トシノリ, 1953- ( 00220096 )Authorities; 成蹊大学 セイケイ ダイガク ( 00702534 )Authorities
• Publication Date: 1991-1993
• Publication Date (W3CDTF): 1991
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 試験研究(B)
• Subject Heading: 流動層 リユウドウソウ; CVD CVD; 粒子コーテイング リユウシコーテイング; 直流プラズマ チヨクリユウプラズマ; マイクロ波プラズマ マイクロハプラズマ; 炭化珪素 タンカケイソ
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 03555174
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H03555174
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000006982927; http://id.ndl.go.jp/bib/000006982927
• Bibliographic Record Category (NDL): 214