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レーザー照射によるVLSI配線形成における伝熱解析

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レーザー照射によるVLSI配線形成における伝熱解析

国立国会図書館請求記号
Y151-H03650192
国立国会図書館書誌ID
000006983649
資料種別
図書
著者
岡田, 昌志, 青山学院大学
出版者
-
出版年
1991-1992
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
レーザー ショウシャ ニ ヨル VLSI ハイセン ケイセイ ニ オケル デンネツ カイセキ
著者・編者
岡田, 昌志, 青山学院大学
著者標目
岡田, 昌志 オカダ, マサシ
出版年月日等
1991-1992
出版年(W3CDTF)
1991
数量
その他のタイトル
研究種目 一般研究(C)
件名標目
VLSI配線 VLSIハイセン
ビアホールの埋め込み ビアホールノウメコミ
配線の平坦化 ハイセンノヘイタンカ
放射融解 ホウシヤユウカイ
MAC法 MACホウ
伝熱解析 デンネツカイセキ
表面張力 ヒヨウメンチヨウリヨク
自由表面 ジユウヒヨウメン