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図書

レーザー照射によるVLSI配線形成における伝熱解析

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レーザー照射によるVLSI配線形成における伝熱解析

Call No. (NDL)
Y151-H03650192
Bibliographic ID of National Diet Library
000006983649
Material type
図書
Author
岡田, 昌志, 青山学院大学
Publisher
-
Publication date
1991-1992
Material Format
Paper
Capacity, size, etc.
-
NDC
-
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Notes on use

Note (General):

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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Bibliographic Record

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Paper

Material Type
図書
Title Transcription
レーザー ショウシャ ニ ヨル VLSI ハイセン ケイセイ ニ オケル デンネツ カイセキ
Author/Editor
岡田, 昌志, 青山学院大学
Author Heading
岡田, 昌志 オカダ, マサシ
Publication Date
1991-1992
Publication Date (W3CDTF)
1991
Extent
Additional Title
研究種目 一般研究(C)
Subject Heading
VLSI配線 VLSIハイセン
ビアホールの埋め込み ビアホールノウメコミ
配線の平坦化 ハイセンノヘイタンカ
放射融解 ホウシヤユウカイ
MAC法 MACホウ
伝熱解析 デンネツカイセキ
表面張力 ヒヨウメンチヨウリヨク
自由表面 ジユウヒヨウメン