低周波プラズマCVD(TEOS+O2)によるシリコン酸化膜の低温形成プロセス開発

• 資料種別: 図書
• タイトル: 低周波プラズマCVD(TEOS+O2)によるシリコン酸化膜の低温形成プロセス開発
• タイトルよみ: テイシュウハ プラズマ CVD(TEOS+O2) ニ ヨル シリコン サンカマク ノ テイオン ケイセイ プロセス カイハツ
• 著者・編者: 伊達, 広行, 北海道大学
• 著者標目: 伊達, 広行 ダテ, ヒロユキ
• 出版年月日等: 1992-1993
• 出版年（W3CDTF）: 1992
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 試験研究(B)
• 件名標目: プラズマCVD プラズマCVD; シリコン酸化膜 シリコンサンカマク; 低周波プラズマ テイシユウハプラズマ; TEOS TEOS; 薄膜生成 ハクマクセイセイ; 低温プロセス テイオンプロセス; 集積回路ドライプロセス シユウセキカイロドライプロセス; 非平衡プラズマ ヒヘイコウプラズマ
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 04555018
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H04555018
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000006987067; http://id.ndl.go.jp/bib/000006987067
• 整理区分コード: 214