低周波プラズマCVD(TEOS+O2)によるシリコン酸化膜の低温形成プロセス開発

• Material Type: 図書
• Title: 低周波プラズマCVD(TEOS+O2)によるシリコン酸化膜の低温形成プロセス開発
• Title Transcription: テイシュウハ プラズマ CVD(TEOS+O2) ニ ヨル シリコン サンカマク ノ テイオン ケイセイ プロセス カイハツ
• Author/Editor: 伊達, 広行, 北海道大学
• Author Heading: 伊達, 広行 ダテ, ヒロユキ
• Publication Date: 1992-1993
• Publication Date (W3CDTF): 1992
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 試験研究(B)
• Subject Heading: プラズマCVD プラズマCVD; シリコン酸化膜 シリコンサンカマク; 低周波プラズマ テイシユウハプラズマ; TEOS TEOS; 薄膜生成 ハクマクセイセイ; 低温プロセス テイオンプロセス; 集積回路ドライプロセス シユウセキカイロドライプロセス; 非平衡プラズマ ヒヘイコウプラズマ
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 04555018
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H04555018
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000006987067; http://id.ndl.go.jp/bib/000006987067
• Bibliographic Record Category (NDL): 214