ケミカルプロセスによるメモリー用強誘電体薄膜の作製と特性評価

• 資料種別: 図書
• タイトル: ケミカルプロセスによるメモリー用強誘電体薄膜の作製と特性評価
• タイトルよみ: ケミカルプロセス ニ ヨル メモリーヨウ キョウ ユウデンタイ ハクマク ノ サクセイ ト トクセイ ヒョウカ
• 著者・編者: 峠, 登, 近畿大学
• 著者標目: 峠, 登 トウゲ, ノボル
• 出版年月日等: 1992-1993
• 出版年（W3CDTF）: 1992
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 試験研究(B)
• 件名標目: ゾルーゲル法 ゾルーゲルホウ; 強誘電体 キヨウユウデンタイ; PZT PZT; PLZT PLZT; Bi4Ti3O12 BI4TI3O12; 薄膜 ハクマク; 化学修飾 カガクシユウシヨク; パターニング パターニング
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 04555188
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H04555188
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000006987225; http://id.ndl.go.jp/bib/000006987225
• 整理区分コード: 214