ケミカルプロセスによるメモリー用強誘電体薄膜の作製と特性評価

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Material Type: 図書
Title: ケミカルプロセスによるメモリー用強誘電体薄膜の作製と特性評価
Title Transcription: ケミカルプロセスニヨルメモリーヨウキョウユウデンタイハクマクノサクセイトトクセイヒョウカ
Author/Editor: 峠, 登, 近畿大学
Author Heading: 峠, 登トウゲ, ノボル
Publication Date: 1992-1993
Publication Date (W3CDTF): 1992
Extent: 冊
Additional Title: 研究種目試験研究(B)
Subject Heading: ゾルーゲル法ゾルーゲルホウ
強誘電体キヨウユウデンタイ
PZT PZT
PLZT PLZT
Bi4Ti3O12 BI4TI3O12
薄膜ハクマク
化学修飾カガクシユウシヨク
パターニングパターニング
NDLC: Y151
Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 04555188
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Y151-H04555188
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000006987225
http://id.ndl.go.jp/bib/000006987225
Bibliographic Record Category (NDL): 214