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電荷移動モデルによるプラズマCVD窒化(酸化)Si膜の微視的結合構造変化の解析

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電荷移動モデルによるプラズマCVD窒化(酸化)Si膜の微視的結合構造変化の解析

国立国会図書館請求記号
Y151-H05650009
国立国会図書館書誌ID
000006992809
資料種別
図書
著者
長谷川, 誠一, 金沢大学
出版者
-
出版年
1993-1994
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
デンカ イドウ モデル ニ ヨル プラズマ CVD チッカ(サンカ)Si マク ノ ビシテキ ケツゴウ コウゾウ ヘンカ ノ カイセキ
著者・編者
長谷川, 誠一, 金沢大学
著者標目
長谷川, 誠一 ハセガワ, セイイチ
出版年月日等
1993-1994
出版年(W3CDTF)
1993
数量
その他のタイトル
研究種目 一般研究(C)
件名標目
シリコン窒化膜 シリコンチツカマク
シリコン酸化膜 シリコンサンカマク
プラズマCVD プラズマCVD
結合構造 ケツゴウコウゾウ
電荷移動モデル デンカイドウモデル
ランダム結合モデル ランダムケツゴウモデル
赤外吸収 セキガイキユウシユウ
ストレス ストレス