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ECRプラズマCVDによる高品質微結晶ゲルマニウム膜の成膜法

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ECRプラズマCVDによる高品質微結晶ゲルマニウム膜の成膜法

国立国会図書館請求記号
Y151-H05650314
国立国会図書館書誌ID
000006992950
資料種別
図書
著者
青木, 彪, 東京工芸大学
出版者
-
出版年
1993-1994
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
ECR プラズマ CVD ニ ヨル コウヒンシツ ビケッショウ ゲルマニウムマク ノ セイマクホウ
著者・編者
青木, 彪, 東京工芸大学
著者標目
青木, 彪 アオキ, タケシ
出版年月日等
1993-1994
出版年(W3CDTF)
1993
数量
その他のタイトル
研究種目 一般研究(C)
件名標目
ゲルマニウム膜 ゲルマニウムマク
ECRプラズマCVD ECRプラズマCVD
アモルフアス・微結晶相転移 アモルフアス・ビケツシヨウソウテンイ
光電特性 コウデントクセイ
HALL移動度 HALLイドウド
TFT TFT
表面電界効果移動度 ヒヨウメンデンカイコウカイドウド
光劣化効果 ヒカリレツカコウカ