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極微細領域選択エピタキシヤル成長法の基礎的研究

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極微細領域選択エピタキシヤル成長法の基礎的研究

国立国会図書館請求記号
Y151-H06452216
国立国会図書館書誌ID
000006996115
資料種別
図書
著者
石田, 誠, 豊橋技術科学大学
出版者
-
出版年
1994-1996
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
ゴク ビサイ リョウイキ センタク エピタキシヤル セイチョウホウ ノ キソテキ ケンキュウ
著者・編者
石田, 誠, 豊橋技術科学大学
著者標目
石田, 誠, 1950- イシダ, マコト, 1950- ( 01223195 )典拠
出版年月日等
1994-1996
出版年(W3CDTF)
1994
数量
その他のタイトル
研究種目 一般研究(B)
件名標目
選択エピタキシー センタクエピタキシー
電子ビーム照射 デンシビームシヨウシヤ
Si/Al2O3ヘテロエピタキシヤル成 SI/AL2O3ヘテロエピタキシヤルセイ
SOI構造 SOIコウゾウ
Al2O3薄膜 AL2O3ハクマク