シランーフツ素系化学反応プロセスを利用するSi薄膜の低温結晶成長技術の開発

• 資料種別: 図書
• タイトル: シランーフツ素系化学反応プロセスを利用するSi薄膜の低温結晶成長技術の開発
• タイトルよみ: シランーフツソケイ カガク ハンノウ プロセス オ リヨウ スル Si ハクマク ノ テイオン ケッショウ セイチョウ ギジュツ ノ カイハツ
• 著者・編者: 半那, 純一, 東京工業大学
• 著者標目: 半那, 純一 ハンナ, ジュンイチ
• 出版年月日等: 1994-1995
• 出版年（W3CDTF）: 1994
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 試験研究(A)
• 件名標目: CVD CVD; シラン シラン; フツ素 フツソ; アモルフアスシリコン アモルフアスシリコン; 多結晶シリコン タケツシヨウシリコン; 低温結晶成長 テイオンケツシヨウセイチヨウ; 反応流 ハンノウリユウ
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 06505001
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H06505001
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000006997211; http://id.ndl.go.jp/bib/000006997211
• 整理区分コード: 214