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シランーフツ素系化学反応プロセスを利用するSi薄膜の低温結晶成長技術の開発

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シランーフツ素系化学反応プロセスを利用するSi薄膜の低温結晶成長技術の開発

Call No. (NDL)
Y151-H06505001
Bibliographic ID of National Diet Library
000006997211
Material type
図書
Author
半那, 純一, 東京工業大学
Publisher
-
Publication date
1994-1995
Material Format
Paper
Capacity, size, etc.
-
NDC
-
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Notes on use

Note (General):

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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Bibliographic Record

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Paper

Material Type
図書
Title Transcription
シランーフツソケイ カガク ハンノウ プロセス オ リヨウ スル Si ハクマク ノ テイオン ケッショウ セイチョウ ギジュツ ノ カイハツ
Author/Editor
半那, 純一, 東京工業大学
Author Heading
半那, 純一 ハンナ, ジュンイチ
Publication Date
1994-1995
Publication Date (W3CDTF)
1994
Extent
Additional Title
研究種目 試験研究(A)
Subject Heading
CVD CVD
シラン シラン
フツ素 フツソ
アモルフアスシリコン アモルフアスシリコン
多結晶シリコン タケツシヨウシリコン
低温結晶成長 テイオンケツシヨウセイチヨウ
反応流 ハンノウリユウ