TICSを用いた水素フリーSiO2膜形成法

• 資料種別: 図書
• タイトル: TICSを用いた水素フリーSiO2膜形成法
• タイトルよみ: TICS オ モチイタ スイソ フリー SiO2 マク ケイセイホウ
• 著者・編者: 杉浦, 修, 東京工業大学
• 著者標目: 杉浦, 修 スギウラ, オサム
• 出版年月日等: 1994-1995
• 出版年（W3CDTF）: 1994
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 試験研究(B)
• 件名標目: プラズマCVD プラズマCVD; SiO2 SIO2; テトライソシアネートシラン テトライソシアネートシラン; TICS TICS; PECVD PECVD
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 06555091
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H06555091
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000006997351; http://id.ndl.go.jp/bib/000006997351
• 整理区分コード: 214