配向性制御による高電気伝導度ITO薄膜の開発

• 資料種別: 図書
• タイトル: 配向性制御による高電気伝導度ITO薄膜の開発
• タイトルよみ: ハイコウセイ セイギョ ニ ヨル コウデンキ デンドウド ITO ハクマク ノ カイハツ
• 著者・編者: 安井, 至, 東京大学
• 著者標目: 安井, 至 ヤスイ, イタル
• 出版年月日等: 1994-1995
• 出版年（W3CDTF）: 1994
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 試験研究(B)
• 件名標目: ITO ITO; 配向性 ハイコウセイ; ヘテロエピタキシヤル成長 ヘテロエピタキシヤルセイチヨウ; スパツタリング スパツタリング; 薄膜 ハクマク; 電気伝導 デンキデンドウ
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 06555181
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H06555181
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000006997435; http://id.ndl.go.jp/bib/000006997435
• 整理区分コード: 214